S vývojem časů, aby byly splněny požadavky na bezpečnost, úspory energie, snížení hluku a snížení emisí znečišťujících látek, se v procesu povrchového zpracování stal nový trend ochrany životního prostředí. Kromě všeobecného galvanizací je podtlak šetrnější k životnímu prostředí. Zároveň může podtlakové plátování přinést dobrý lesk černého efektu, který nelze dosáhnout běžným galvanizací.
Vakuové plátování je v podstatě jev fyzického depozice, což je, že argon je vstříknut do cíle ve stavu vakuu a cíl je rozdělen na molekuly, které jsou adsorbované vodivým zbožím k vytvoření jednotné a hladké povrchové vrstvy. V procesu galvanizací je cíl velmi důležitý. Jaké jsou aplikace cíle v procesu podtlaku? Dnes vám poskytne podrobný Úvod Editor Sifeng.
Obecně se použití cílů ve vakuovém plátování má tyto vlastnosti:
1. kov, slitina nebo izolátor lze zhotovit na filmový materiál.
(2) za správných podmínek seřízení lze více a složité cíle provést ve stejném filmu.
(3) směs nebo sloučeninu cílové látky a molekuly plynu lze zhotovit přidáním kyslíku nebo jiných aktivních plynů do vypouštěcí atmosféry.
(4) je možné ovládat vstupní proud a dobu tání cíle a lze snadno získat vysokou přesnost filmu.
(5) ve srovnání s jinými procesy je výhodnější produkovat homogenní filmy velkého prostoru.
(6) odvržený částice nejsou ovlivněny gravitací a poloha cíle a substrátu může být uspořádána volně.
(7) síla adheze mezi substrátem a filmem je více než 10krát větší než u celkové vrstvy odpařování a vzhledem k vysoké síle vyjížděných částic bude tvrdý a hustý film nadále rozptýlený na filmovém povrchu, zároveň , vysoká energie činí substrát tak dlouho, dokud může nižší teplota získat krystalický film.
