Vakuový odpařovací film je odpařování nebo sublimace velkého počtu molekul nebo atomů ve vakuu nejméně 10-2 Pa. Odpařovací materiál se zahřívá na konstantní teplotu pomocí odporového zahřívání nebo elektronovým paprskem a laserovým bombardováním, takže že tepelná vibrační energie molekul nebo atomů v materiálu přesahuje vázanou energii povrchu, a pak se velké množství molekul nebo atomů odpaří nebo sublimuje a uloží přímo na substrát. Film. Iontování kalu je druh tenkého filmu, který se nanáší na povrch pokoveného obrobku unikáním atomů nebo molekul z materiálu terče bombardováním katodového terče vysokým výtlačným pohybem kladných iontů produkovaných výbojem plynu působením elektrického pole .
Vakuový odpařovací povlak je nejčastěji používanou metodou zahřívání žlučníku. Jeho předností je jednoduchá struktura zdroje vytápění, nízká cena a snadná obsluha. Není vhodný pro žáruvzdorné kovy a dielektrické materiály odolné vůči vysokým teplotám. Nedostatky odporového zahřívání mohou překonat vyhřívání elektronovým paprskem a laserové zahřívání. Při zahřívání elektronovým paprskem se zaostřený elektronový paprsek používá k přímému ohřevu bombardovaného materiálu a kinetická energie elektronového paprsku se mění na tepelnou energii, aby se materiál odpařil. Laserové vytápění využívá jako zdroj vytápění vysoce výkonný laser, ale vzhledem k vysokým nákladům na vysoce výkonný laser je nyní možné jej použít pouze v několika výzkumných laboratořích.
Technologie naprašování se liší od technologie vakuového odpařování. „Prskání“ se týká jevu, který nabité částice bombardují povrch těla (cíle), aby z povrchu vyzařovaly pevné atomy nebo molekuly. Většina emitovaných částic je v atomovém stavu, často nazývaných atomy paprsků. Rozprašovací částice používané pro bombardovací cíle mohou být elektrony, kvocienty nebo neutrální částice, protože ionty se v elektrickém poli snadno zrychlují, aby získaly požadovanou kinetickou energii, takže většina z nich používá ionty jako bombardovací částice. Proces rozprašování je založen na žhavém výboji, to znamená, že rozprašovací ionty jsou všechny z vypouštění plynu. Různé technologie rozprašování používají různé režimy vybíjení záře. DC bipolární naprašování je založeno na rozprašování triody DC s žhavým výbojem, které je podporováno horkou katodou. Je založen na vysokofrekvenčním žárovém výboji. Rozprašování magnetronu je založeno na žhavém výboji řízeném prstencovým magnetickým polem.
Kontaktní informace:
E-mail: mail@refrachina.com
Adresa: Suite A2202-03, Mezinárodní výstava Qujiang, Yanzhan Road, Xi'an,
710061, Čína
Telefon: 86-29-85325399
Fax ： 029-85325610
